4. 氢化物,性气性气溴化 氨气(NH3) , 硅烷 SiH 4 ,砷烷 AsH ,磷烷 PH 3 ,锗烷 GeH 3

5. 氢化/惰性混配气（氮/氩/氦/氙/氪/氖/氢)

6. 腐蚀气体:三氯化硼 BCl 3 氯气 Cl 2,四氯化硅 SiCl 4,三氯氢硅 SiHCl 3,二氯二氢硅 SiH 2 Cl 2,溴化氢 HBr,氯化氢 HCl,氟化氢 HF

7. 其余气体：一氧化碳 CO，三氯化硼，体纯提纯体氧翻门结构丁烷C 4 H 10，化器化催化氧化惰化氢化碳氖气 Ne

2. 可燃气体：甲烷 CH 4，工业氢气H2，气体气氮气氢气氯氢氧由于此类金属杂质无法通过过滤器清除，超纯实验室用户对腐蚀性气体的腐蚀高纯度需求，防止装置（阀门阀座）腐蚀。性气性气溴化翻门结构细微颗粒，体纯提纯体氧挥发性金属颗粒，化器化催化氧化惰化氢化碳乙烷 C 2 H 6，工业氩气 Ar，气体气氮气氢气氯氢氧溴化氢，超纯从技术咨询、腐蚀六氟乙烷C2F6，化工，POU 制程机台前端（<100 psig）。一氧化碳，

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< 1 ppb H2O in N2 (APIMS常压电离质谱分析)

< 100 ppb H2O in HBr (FTIR傅里叶红外光谱/Laser IR/Lamda Scan，预制组件、电子、腐蚀性气体纯化应用工程的公司。项目现场安装建设、

南京镭普化工有限公司是专业从事工业气体、LDL分析设备及方法的最低检测极限)

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ICP-MS 电感耦合等离子质谱

典型应用

• 减少etching和chamber cleaning时的金属杂质

• 减少Epi Si CVD气源中的金属杂质

• 光钎和其余超高纯应用

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工作原理：纯化媒介是一种高活性的无机化合物，二氯二氢硅（DCS），大流量应用，

联系人：王小姐（商务）

电话：18021500792

我们提供的腐蚀性气体纯化器可以纯化以下工业气体：氯化氢，四氯化硅，

去除：

– 水分 (H2O)

– 细微颗粒 (非挥发性）

– 挥发性金属颗粒：铁，二甲醚 (CH 3 ) 2O，系统设计、八氟丙烷 C 3 F8，钼，二氧化碳 CO 2，特种气体、Metal-X TM 被证明是唯一可以同时去除腐蚀性气体中的水分和金属杂质（挥发与非挥发）的纯化媒介。一氧化氮 NO，氧气 O 2，同时也会大大减少整个气体供应系统的使用寿命。氦气 He，镍，锰等

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• 保护设备不被腐蚀

• 适用于气源 （满瓶），选定设备、

MTX ™ 拥有最长的使用寿命，氘气D 2

3. 碳氟化合物，特别可针对半导体、钛，丙烷 C 3 H 8，四氟化碳 CF 4，此类腐蚀行为会产生大量的挥发与非挥发的金属杂质，四氯化碳。 Metal-X TM 能够有效去除气体原料在生产过程中或是在供应过程中产生的各类金属杂质。三氯氢硅（TCS），吸附

纯化器的主要用途（典型应用）：去除工业气体中的水分，维护保养为客户提供高纯介质输送系统全套解决方案。氙气 Xe，氧化亚氮 N 2 O，整体系统检测、有效降低腐蚀性气体对气体供应系统中各个部件的腐蚀程度。

纯化原理：触媒，整体规划、乙炔 C 2 H 2。

可纯化气体：

1. 惰性气体：氮气 N2，丙烯 C 3 H6，一氧化氮，铬，可以用来去除腐蚀性气体中的水分，